硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数
来源:学生作业帮 编辑:搜搜做题作业网作业帮 分类:综合作业 时间:2024/07/31 10:55:26
硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数
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通入氩气,使得真空度达到靶材可以起辉的真空度,然后通入一定量的氧气,不过氧气不能太多,否则靶材会毒化的.
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