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氯气用途十分广泛,可用于生产半导体材料硅,其生产流程如图,下列说法不正确的是(  )

来源:学生作业帮 编辑:搜搜做题作业网作业帮 分类:化学作业 时间:2024/08/05 00:58:18
氯气用途十分广泛,可用于生产半导体材料硅,其生产流程如图,下列说法不正确的是(  )


A.①③是置换反应,②是化合反应
B.高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅的
C.任一反应中,每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子
D.高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅
氯气用途十分广泛,可用于生产半导体材料硅,其生产流程如图,下列说法不正确的是(  )
A.二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳,四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢,都是置换反应,硅和氯气反应生成四氯化硅,是化合反应,故A正确;
B.二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳,四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢,根据还原剂的还原性大于还原产物的还原性,则高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅,故B正确;
C.28 g硅的物质的量为1mol,每消耗或生成1个硅,化合价均变化4,即均转移4个电子,所以每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子,故C正确;
D.在高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合,则石英砂与焦炭反应,氯气与氢气反应,就不再按照题干的流程进行,不会得到高纯硅,故D错误;
故选D.